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等离子增强化学气相沉积炉(PECVD系统)

简要描述:

等阴阳铁正离子提升物理化学物质气质联用累积炉(PECVD软件系统)是推动于尖端击穿等阴阳铁正离子体使所含透明膜构造的气态物会发生物理化学物质反應迟钝迟钝,导致推动透明膜材料发育的本身新的制法水平。随着PECVD水平是能够 应气物尖端击穿来制法透明膜的,有郊地德用了非动平衡等阴阳铁正离子体的反應迟钝迟钝优点,从几乎上变换了反應迟钝迟钝体制的力量供求方法。
款型: 市政:成都市市 访问就会量:1342 系统更新耗时:2022-11-18 在线留言
等离子增强化学气相沉积炉(PECVD系统)
  一、等离子增强化学气相沉积炉(PECVD系统)的应用:
  PECVD工艺中由于等离子体中高速运行的电子撞击到中性的反应气体分子,就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应;借助射频等使含有薄膜组成原子的气体,在局部形成离子体,而等离子体化学活性很强,很容易反应,在基片上沉积出所期望的薄膜;具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点;
 
  二、产品特点:
  1、整机采用SUS304不锈钢材质,流线型外观,真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛,保温性能好。
  2、炉子底部装有一对滑轨,移动平稳,可以手动从一端滑向另一端,实现快速的加热和冷却。炉盖可开启,可以实时观察加热的物料。
   3、采用高纯石英管,高温下化学稳定性强,耐腐蚀,热膨胀系数极小。
  4、采用SUS304不锈钢快速法兰,通过用高温“O”型圈紧密密封可获得高真空,一个卡箍就能完成法兰的连接,放、取物料方便快捷。
  5、加热元件采用康奈尔发热丝,表面负荷高、经久耐用。设计温度1200℃,升温速率10℃/min。
  6、可选配多路质量流量计,数字显示、气体流量自动控制;内置不锈钢混气箱,每路气体管路均配有逆止阀,可通过控制面板上的旋钮来调节气体流量。
  7、等离子射频电源:大射频功率达500W,输出频率13.56MHz±0.005%,输入电源 208-240VAC,单相50/60Hz。
 
  三、技术参数:

 
款式 HTF1200-2.5/20-2M-LV-PE  HTF1200-5/20-4M-LV-PE  HTF1200-6/40-2M-HV-PE  HTF1200-8/40-4M-HV-PE 
设计的概念摄氏度(℃) 1200  1200  1200  1200 
控温精准度(℃) ±1  ±1 ±1  ±1 
升温区直径怎么算(mm) 25   50 60  80 
供暖区长(mm) 200   200  400  400 
升温管长(mm) 450  450  1000  1000 
恒溫区时长(mm) 80  80  150  150 
固定电压等级(V) 220  220  220  220
电机功率电机功率(KVA) 1.2  1.2 
rf射频开关电源工作电压(W) 5~300  5~300  5~500  5~500 
涡流冷水机组 HTF-101  HTF-101  HTF-104  HTF-104 
燃气管道安装机系统 HTF-2F  HTF-4F HTF-2M  HTF-4M 
 

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